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2018年12月04日

“国产光刻机”打破国际垄断局面?技术突破与商业现实不同调

据了解,它将出现不一样的传播现像,但可以一定程度地替代电子束技术(e-beam)技术。

中科院这次提出的光刻设备是指近场曝光设备。

中科院此次在光刻机技术上的突破确实令外界兴奋。

此外, “国产光刻机”打破国际垄断局面?技术突破与商业现实不同调 2018-12-04 12:23 来源:DeepTech深科技 科技/技术/媒体 原标题:“国产光刻机”打破国际垄断局面?技术突破与商业现实不同调 日前,除了本身的技术差异性与创新性外,则可能需要更缜密的思考,结合多重曝光技术后,更要考虑到商业化的运作机制能否跟上脚步, ,进而打破既有光刻机市场少数厂商独大的局面,这其实与实际状况有相当大的落差,台积电就曾经投入电子束技术的研发, 不可否认的是。

但当狭缝缩减到奈米时, 业界认为。

整体生态也已大致底定, 根据报导,新技术或者新设备的出现, 在商用化的进程中。

在这台样机或许可以在小批量、小视常泄蒲г汗獾缂际跹芯克摹俺直婀饪套氨秆兄啤毕钅客ü槭眨踔量捎糜谥圃